第845章【新城微电子半导体】
我的金融科技帝国正文卷第845章【新城微电子半导体】别看上次陈宇在外网的那次手笔吓坏了镁国人,但这并没有从根本上改变因特网是被老美控制的事实,尽管陈宇有强大的入侵技术水平,但如果老美直接物理上“拔网线”你也没辙。
说到底,因特网终究是镁国人控制的网,而不是真正意义上的互联网。
现在确实因为陈宇此前在外网的出手对老美起到了一定的震慑作用,但也可以肯定的是,老美那边的技术团队现在绝对是在疯狂的修复中。
现在能具备一定的威慑力,以后可就难说了。
说来说去还是得摆脱因特网,这才是从根本上解决可能被老美单方面“断网”威胁的办法。
显而易见,电信网是可以绕开因特网的一系列问题,因为电信网可不受镁国人的控制。
加上卫星通信可以打破电信网的领土边界管辖的问题,这又是冲出国门,走向世界的关键。
毕竟,全世界还是有一大票人不爽美帝的,只不过迫于其势不敢表露出来,与之不对付的大有人在,活在其阴影中的也大有人在,有时候明知道自己的通信设备可能被老美监控,但是没办法,你不用就没得用。
老美的“棱镜门”事件才过去没多长时间。
如果这个时候能够出现一款替代产品,还能完全规避cia的监控,那吸引力绝对是杠杆的,就算表面上说绝对不用,私底下肯定会过来悄悄摸的下单。
这也是星宇科技的产品未来走向国际化的一大重要的卖点。
却说此刻,方鸿与秦丰的视讯连线商讨展开了半个多小时左右便就此结束,星宇科技目前的开发任务也很繁重,手底下不但有拳头产品star系列智能手机的全国产化之路,现在还有新能源车这一块也在发展。
方鸿与他结束通话之后,顺手便在电脑上打开了行情软件,然后输入了一个代码瞅了眼,其所对应的公司叫“新微半导体”,这家企业是群星系旗下的子公司,也是此前方鸿拟定的20家新上市的子公司之一。
在方鸿制定的国产半导体全产业链体系中,这家企业负责的便是光刻机这一块的设备厂商,光刻机对于半导体行业的重要性无需多言了,可见其身肩重担,被寄予厚望。
该公司就在今天正式登陆a股市场,走的是借壳上市的路子,正常ipo肯定是没这么快,新微半导体公司目前都是处于烧钱阶段,没有任何的盈利,也只能走借壳上市的路子。
此次借壳上市,新微半导体向市场要了105个亿,估值700亿元,在半导体行业板块上来就给到700亿的估值是非常罕见的,此前就没有过。
而且,眼下板块内超过500亿市值的半导体公司都是只手可数,这在一定程度上也反应了国产半导体的窘境。
方鸿瞅了眼新微半导体的分时盘面,复牌首日不设涨跌幅限制,盘中股价最高冲到了59元价位,涨幅超+114%,市值规模飙升到了1600亿之巨,直接跃升成为当前半导体板块市值第一股。
不过这会儿已经回落下来了,目前的股价维持在了40元价位附近震荡,对应的市值规模大约1000亿左右,最终收盘也在40元价位上方结束。
……
到了第二天一早,方鸿起来瞅了瞅早间资讯,看到了一条与光刻机,乃至和新微半导体设备公司有关的新闻。
asml公司总裁彼得在媒体上公开声称:华国企业自研光刻机的行为,是在破坏全球芯片产业链……
“呵呵……”
方鸿看到这条新闻不禁笑了,自顾自地说道:“看来,多少还是有点急眼了啊,急眼就对了。”
国产光刻机对标世界最先进水平其实还有很长的一段距离要走的,可是今年上半年以来,大基金的出现让国际上的那些厂商感觉到了“不对味儿”,他们一开始就尝试要渗透、孵化大基金的管理层。
可他们并没有意识到,这会儿的大基金管理层团队虽然明面上和群星资本没什么关系,但实际上都是方鸿派过去的人,而结果就是他们发现渗透、孵化这一招收效甚微。
现在大基金的前都在落地到实处,比如这主攻光刻机的新微半导体就拿了不少钱,而且昨天借壳上市又向资本市场要了105个亿,几乎提供了花不完的钱。
拿了那么多的钱,基本都砸到研发项目里。
目前新微半导体同时在搞三代光刻机,因为光刻机的研发生产并不需要由低到高、循序渐进,是可以平行研发的,所以新微半导体直接起了三个团队并行研发。
这三个团队分别攻关第四代arf光刻机,第五代arfi光刻机,以及第六代极紫外光euv光刻机。
第四代的arf光刻机与第三代krf原理一样,但光源升级,采用193nm光源的光刻机,这两种称之为duv光刻机。
而第五代arfi光刻机,采用的也是193nm光源,但这种又与arf不一样,之前所有的光刻机其介质采用的是空气,但到了arfi光刻机时,采用的是水。
光线在经过水时,会有折射,所以虽然arfi光刻机采用193nm波长光源,经水折射时,等效于134nm波长的光源,所以这种光刻机,叫做浸润式光刻机。
说起来,曾经业界光刻机技术停止了很多年,尼康、佳能想把光源从193nm升级为165nm,但好多年没成功。
而抬积电提出来用水作介质,就跳过157nm,变成143nm了。
尼康、佳能很傲慢,不理抬积电,那时候asml只是个小厂,也敢于一试,最后就搏出了asml的未来,研发出了arfi浸润式光刻机,然后打得尼康、佳能一败涂地,成就了今天的行业地位。
而第六代euv光刻机,采用的则是13.5纳米的极紫外线光源了,这种光刻机目前全世界都没有搞出来,asml也一样,针对的事7纳米制程级别的芯片制造,而当前世界最先进的制程是在14纳米这一阶段。
可以确定的,整合国内光刻机产业链的新微半导体,其技术水平就是代表了目前国产技术的最高水平,现在是把所有的相关资源都砸在了新微半导体身上,由该公司对光刻机展开全力攻克任务。
像g线、i线国内都有了,krf也有了,就是新微半导体突破的。
目前在攻克的arf光刻机也已经快要突破了,并且正在全力死磕arfi光刻机,同时对于极紫外光刻euv的研究也有团队在展开论证。
各代的光刻机开发团队并行展开,同时也相互交流。
现在的新微半导体是要钱有人给钱,要人才方鸿这边到处给他找,而且因为老美对技术、元件等进行了封锁,在很大程度上非但没有击垮,反而因为外部的压力促使内部变得更加团结一致死磕。
……
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说到底,因特网终究是镁国人控制的网,而不是真正意义上的互联网。
现在确实因为陈宇此前在外网的出手对老美起到了一定的震慑作用,但也可以肯定的是,老美那边的技术团队现在绝对是在疯狂的修复中。
现在能具备一定的威慑力,以后可就难说了。
说来说去还是得摆脱因特网,这才是从根本上解决可能被老美单方面“断网”威胁的办法。
显而易见,电信网是可以绕开因特网的一系列问题,因为电信网可不受镁国人的控制。
加上卫星通信可以打破电信网的领土边界管辖的问题,这又是冲出国门,走向世界的关键。
毕竟,全世界还是有一大票人不爽美帝的,只不过迫于其势不敢表露出来,与之不对付的大有人在,活在其阴影中的也大有人在,有时候明知道自己的通信设备可能被老美监控,但是没办法,你不用就没得用。
老美的“棱镜门”事件才过去没多长时间。
如果这个时候能够出现一款替代产品,还能完全规避cia的监控,那吸引力绝对是杠杆的,就算表面上说绝对不用,私底下肯定会过来悄悄摸的下单。
这也是星宇科技的产品未来走向国际化的一大重要的卖点。
却说此刻,方鸿与秦丰的视讯连线商讨展开了半个多小时左右便就此结束,星宇科技目前的开发任务也很繁重,手底下不但有拳头产品star系列智能手机的全国产化之路,现在还有新能源车这一块也在发展。
方鸿与他结束通话之后,顺手便在电脑上打开了行情软件,然后输入了一个代码瞅了眼,其所对应的公司叫“新微半导体”,这家企业是群星系旗下的子公司,也是此前方鸿拟定的20家新上市的子公司之一。
在方鸿制定的国产半导体全产业链体系中,这家企业负责的便是光刻机这一块的设备厂商,光刻机对于半导体行业的重要性无需多言了,可见其身肩重担,被寄予厚望。
该公司就在今天正式登陆a股市场,走的是借壳上市的路子,正常ipo肯定是没这么快,新微半导体公司目前都是处于烧钱阶段,没有任何的盈利,也只能走借壳上市的路子。
此次借壳上市,新微半导体向市场要了105个亿,估值700亿元,在半导体行业板块上来就给到700亿的估值是非常罕见的,此前就没有过。
而且,眼下板块内超过500亿市值的半导体公司都是只手可数,这在一定程度上也反应了国产半导体的窘境。
方鸿瞅了眼新微半导体的分时盘面,复牌首日不设涨跌幅限制,盘中股价最高冲到了59元价位,涨幅超+114%,市值规模飙升到了1600亿之巨,直接跃升成为当前半导体板块市值第一股。
不过这会儿已经回落下来了,目前的股价维持在了40元价位附近震荡,对应的市值规模大约1000亿左右,最终收盘也在40元价位上方结束。
……
到了第二天一早,方鸿起来瞅了瞅早间资讯,看到了一条与光刻机,乃至和新微半导体设备公司有关的新闻。
asml公司总裁彼得在媒体上公开声称:华国企业自研光刻机的行为,是在破坏全球芯片产业链……
“呵呵……”
方鸿看到这条新闻不禁笑了,自顾自地说道:“看来,多少还是有点急眼了啊,急眼就对了。”
国产光刻机对标世界最先进水平其实还有很长的一段距离要走的,可是今年上半年以来,大基金的出现让国际上的那些厂商感觉到了“不对味儿”,他们一开始就尝试要渗透、孵化大基金的管理层。
可他们并没有意识到,这会儿的大基金管理层团队虽然明面上和群星资本没什么关系,但实际上都是方鸿派过去的人,而结果就是他们发现渗透、孵化这一招收效甚微。
现在大基金的前都在落地到实处,比如这主攻光刻机的新微半导体就拿了不少钱,而且昨天借壳上市又向资本市场要了105个亿,几乎提供了花不完的钱。
拿了那么多的钱,基本都砸到研发项目里。
目前新微半导体同时在搞三代光刻机,因为光刻机的研发生产并不需要由低到高、循序渐进,是可以平行研发的,所以新微半导体直接起了三个团队并行研发。
这三个团队分别攻关第四代arf光刻机,第五代arfi光刻机,以及第六代极紫外光euv光刻机。
第四代的arf光刻机与第三代krf原理一样,但光源升级,采用193nm光源的光刻机,这两种称之为duv光刻机。
而第五代arfi光刻机,采用的也是193nm光源,但这种又与arf不一样,之前所有的光刻机其介质采用的是空气,但到了arfi光刻机时,采用的是水。
光线在经过水时,会有折射,所以虽然arfi光刻机采用193nm波长光源,经水折射时,等效于134nm波长的光源,所以这种光刻机,叫做浸润式光刻机。
说起来,曾经业界光刻机技术停止了很多年,尼康、佳能想把光源从193nm升级为165nm,但好多年没成功。
而抬积电提出来用水作介质,就跳过157nm,变成143nm了。
尼康、佳能很傲慢,不理抬积电,那时候asml只是个小厂,也敢于一试,最后就搏出了asml的未来,研发出了arfi浸润式光刻机,然后打得尼康、佳能一败涂地,成就了今天的行业地位。
而第六代euv光刻机,采用的则是13.5纳米的极紫外线光源了,这种光刻机目前全世界都没有搞出来,asml也一样,针对的事7纳米制程级别的芯片制造,而当前世界最先进的制程是在14纳米这一阶段。
可以确定的,整合国内光刻机产业链的新微半导体,其技术水平就是代表了目前国产技术的最高水平,现在是把所有的相关资源都砸在了新微半导体身上,由该公司对光刻机展开全力攻克任务。
像g线、i线国内都有了,krf也有了,就是新微半导体突破的。
目前在攻克的arf光刻机也已经快要突破了,并且正在全力死磕arfi光刻机,同时对于极紫外光刻euv的研究也有团队在展开论证。
各代的光刻机开发团队并行展开,同时也相互交流。
现在的新微半导体是要钱有人给钱,要人才方鸿这边到处给他找,而且因为老美对技术、元件等进行了封锁,在很大程度上非但没有击垮,反而因为外部的压力促使内部变得更加团结一致死磕。
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